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替代EUV光刻机光源，日本方案详解

摩尔定律指出，芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番，而光刻分辨率的提升是实现这一目标的关键。随着光源波长的缩短，EUV（极紫外）光刻技术应运而生，其波长...

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4个月前