标签：EUV光刻
EUV光刻新方案，大幅降低成本！
本文提出了一种新型的极紫外（EUV）光刻技术，旨在降低现有EUV光刻设备的功耗和成本，同时提高生产效率。该技术采用简化的照明系统和双镜片投影物镜设计，相...
天价EUV光刻，何去何从？
随着摩尔定律的推动，半导体行业经历了数十年的繁荣发展，晶圆代工厂商如台积电、三星和英特尔在先进制程技术领域展开了激烈竞争。EUV（极紫外）光刻机因其在...
EUV光刻，新里程碑
随着High NA EUV光刻技术进入大规模生产应用的前夕，imec的Steven Scheer讨论了ASML-imec联合高NA EUV光刻实验室对半导体行业的重要性。位于荷兰费尔德霍芬的...
替代EUV光刻机光源，日本方案详解
摩尔定律指出，芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番，而光刻分辨率的提升是实现这一目标的关键。随着光源波长的缩短，EUV（极紫外）光刻技术应运而生，其波长...
