标签：芯片制造
EUV光刻机争夺战，风云突变
光刻机技术是半导体领域的核心，从DUV到EUV再到High-NA EUV光刻机的发展，不断推动着芯片制造的精度和效率。ASML的High-NA EUV光刻机作为目前最先进的芯片制...
芯片设备，巨头预警
日本芯片制造设备制造商Tokyo Electron上调了全年利润预测，预计财年净利润将增长45%，达到5260亿日元，超出分析师预期。销售额预计将增长31%，达到2.4万亿日...
全球疯建晶圆厂
国际半导体产业协会（SEMI）在其最新报告中预测，全球晶圆厂投资将因市场需求复苏和政府激励措施而激增，预计2024年和2025年全球产能将分别增长6%和7%，达到...
荷兰，不止ASML
荷兰半导体产业在全球具有显著的影响力，其中ASML公司以其光刻技术独占鳌头，成为全球最大的芯片设备制造商。ASML的市值在2024年9月24日达到3229亿美元，2023...
EUV光刻新方案，大幅降低成本！
本文提出了一种新型的极紫外（EUV）光刻技术，旨在降低现有EUV光刻设备的功耗和成本，同时提高生产效率。该技术采用简化的照明系统和双镜片投影物镜设计，相...
双光束超分辨光刻技术的发展和未来
随着芯片制造工艺的持续进步，光刻技术作为关键环节面临着前所未有的挑战。目前，主流的极紫外（EUV）光刻技术已接近物理极限，业界迫切需要新技术突破现有瓶...
清华大学汪玉：大模型能效提升，有几条必经之路？
在AICon全球人工智能开发与应用大会上，清华大学电子工程系教授汪玉发表了题为《可持续的智能：大模型高能效系统前瞻》的演讲，深入探讨了生成式AI时代下的能...
颇尔新加坡工厂投产：支持亚太地区先进芯片制造
随着芯片制造工艺的持续微缩化，对过滤器的需求日益增长。半导体器件特征尺寸的减小，使得芯片制造过程中对水、化学品、溶剂和气体的纯度要求极高，任何亚微...
光刻技术，新里程碑
Multibeam公司近日推出了全球首创的多柱电子束光刻（MEBL）技术，旨在改变芯片制造行业。这项技术专为大规模生产设计，具备全自动精密图案化技术，适用于快速...
EUV光刻机，创下新纪录
ASML宣布其首台高数值孔径机器创造了新的芯片制造密度记录，超越了两个月前的记录。ASML的标准低数值孔径EUV机器可打印13.5nm的临界尺寸，而新的High NA EXE:...
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