标签：掩模

更大的光罩，要来了？

High NA EUV光刻技术的应用面临电路拼接和掩模尺寸的挑战。曝光场之间的电路拼接对高数值孔径（0.55）EUV的设计、良率和可制造性提出了严峻考验。替代方案是...

AIGC动态

3周前

制造先进逻辑芯片的过程始于电路设计，涉及从晶体管到系统设计的多层次步骤。设计图案通过电子束掩模写入设备（如可变形状束和多光束掩模写入机）被写入光掩...

AIGC动态

2个月前