标签：拼接

更大的光罩，要来了？

High NA EUV光刻技术的应用面临电路拼接和掩模尺寸的挑战。曝光场之间的电路拼接对高数值孔径（0.55）EUV的设计、良率和可制造性提出了严峻考验。替代方案是...

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1天前