标签：光刻技术
EUV光刻机争夺战，风云突变
光刻机技术是半导体领域的核心，从DUV到EUV再到High-NA EUV光刻机的发展，不断推动着芯片制造的精度和效率。ASML的High-NA EUV光刻机作为目前最先进的芯片制...
对话纳米压印技术发明人周郁：用变革性的新技术突破光刻瓶颈！
纳米压印技术（Nanoimprint Lithography, NIL）自20世纪90年代中期问世以来，为微电子制造及纳米制造领域带来了革命性变革。这种技术通过机械压印而非传统光...
ASML的称霸之路
在20世纪80年代初，荷兰小镇费尔德霍芬因邻近的工业中心埃因霍温而受益，后者因飞利浦公司而繁荣。飞利浦的技术创新推动了费尔德霍芬的工业活动和技术专长，...
荷兰，不止ASML
荷兰半导体产业在全球具有显著的影响力，其中ASML公司以其光刻技术独占鳌头，成为全球最大的芯片设备制造商。ASML的市值在2024年9月24日达到3229亿美元，2023...
双光束超分辨光刻技术的发展和未来
随着芯片制造工艺的持续进步，光刻技术作为关键环节面临着前所未有的挑战。目前，主流的极紫外（EUV）光刻技术已接近物理极限，业界迫切需要新技术突破现有瓶...
光刻技术，新里程碑
Multibeam公司近日推出了全球首创的多柱电子束光刻（MEBL）技术，旨在改变芯片制造行业。这项技术专为大规模生产设计，具备全自动精密图案化技术，适用于快速...
