标签：光刻
芯片路线图，或被颠覆
制造先进逻辑芯片的过程始于电路设计，涉及从晶体管到系统设计的多层次步骤。设计图案通过电子束掩模写入设备（如可变形状束和多光束掩模写入机）被写入光掩...
国产光罩基板，路在何方?
日本在光刻和光刻相关设备及材料领域长期占据重要市场地位，尤其是在光刻胶和光罩基板方面，几乎处于全球领先地位。光罩基板，也称为空白掩模，是光刻工艺中...
下一代EUV光刻，有多贵？
在SPIE先进光刻与图案技术会议上，高数值孔径（High NA）EUV光刻技术成为焦点，尤其是英特尔和ASML的合作进展。英特尔已安装了两台High NA EUV光刻机，并累计...
EUV光刻，有变！
EUV（极紫外）光刻技术自提出以来，面临高成本、复杂光学系统和高精度光罩制造等多重挑战，但随着技术的成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制...
