文章摘要
【关 键 词】 芯片需求、EUV光刻机、技术挑战、市场增长、行业领先
ASML CEO Christophe Fouquet在接受采访时表示，全球对成熟制程芯片的需求正在急剧上升，但生产这类芯片的利润并不高，西方公司投资也不足。欧洲甚至无法满足自身需求的一半，因此需要从中国进口。他认为，进一步限制ASML向中国出口EUV光刻机是不明智的，因为中国正在生产西方急需的芯片。如果没有替代方案，就不应该让中国的生产变得更加困难。
Fouquet强调，EUV技术非常复杂，整合为一个系统极其困难。中国要模仿这项技术非常困难，因为他们没有欧洲的专业知识。他认为中国在先进芯片方面可能落后美国十年，但在不太现代的芯片技术方面最为活跃。
尽管EUV光刻机价格昂贵，但只要对客户有意义，价格就不重要。Fouquet表示，客户不怕花更多钱，但对他们来说必须是值得的。他预计未来五年半导体市场将翻倍，ASML将与行业一起成长。到2030年，ASML的销售额有望达到440亿至600亿欧元。
Fouquet还提到，ASML正在开发下一代High-NA和Hyper-NA EUV光刻机。虽然这些技术还需要十年左右的时间，但它们将使系统生产力提高一倍，同时也会提高价格。他认为，随着人工智能的发展，对高性能芯片的需求将持续增长。
在采访后的一个多月里，三星电子宣布将引进首个High-NA 0.55 EUV光刻工具，实现半导体制造技术的重大飞跃。SK海力士也计划在2026年首次导入ASML的High NA EUV光刻机，以应用于最先进DRAM内存的生产。
总之，ASML的EUV光刻机在全球半导体产业链中发挥着重要作用。尽管面临政治和经济挑战，但随着技术的进步和市场需求的增长，ASML有望在未来几年实现显著增长。
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【原文作者】 半导体行业观察
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