文章摘要
随着芯片制造工艺的持续微缩化，对过滤器的需求日益增长。半导体器件特征尺寸的减小，使得芯片制造过程中对水、化学品、溶剂和气体的纯度要求极高，任何亚微米或纳米级颗粒、金属、离子和有机污染物的存在都可能影响芯片性能。因此，过滤器在芯片制造中扮演着至关重要的角色。
全球领先的过滤、分离和纯化解决方案专家颇尔公司（Pall Corporation）近日宣布，其位于新加坡的新工厂将于今年正式投入运营。该工厂总投资1.5亿美元，新增Litho光刻和WET湿法化学两条重要产品线，将为亚太地区先进工艺节点的逻辑和存储芯片制造提供强有力的支持。新加坡工厂将作为颇尔亚太地区客户的区域枢纽，预计第三季度即可向中国客户交付产品。
在芯片制造过程中，过滤器在光刻和湿法化学工艺中的作用尤为重要。光刻胶的纯净度直接影响光刻工艺的成败，而湿法刻蚀和清洗工艺在芯片制造中的重要性也在凸显。颇尔新加坡工厂新增的光刻胶Litho产品线，拥有多样滤膜材质，可以帮助去除光刻胶配方中所用原材料中的颗粒和金属离子。此外，颇尔在湿电子化学品领域拥有XpressKleen系列PTFE过滤器和HAPAS聚芳砜过滤器两大主要产品系列，具有高洁净度和高兼容性。
中国制造业近年来蓬勃发展，成为全球制造业的重要一环。颇尔新加坡厂的落成，彰显了对中国制造业市场的坚定信心和深切关注。据中国半导体行业协会集成电路分会理事长叶甜春先生在第26届集成电路制造年会暨供应链创新发展大会上的报告，从2008年到2023年，中国集成电路制造业销售额增长了9.86倍，2023年规模达到3875亿元。颇尔公司始终致力于为中国客户提供高质量、高性能的过滤器解决方案，其产品赢得了广大中国客户的信赖。
在全球芯片竞争如此激烈、地缘政治影响日益深远的当下，颇尔公司于新加坡新建工厂的投产，将为亚太尤其是中国地区提供更加稳定可靠的供应链保障。这座耗资约1.5亿美元的工厂，是颇尔坚定亚太市场扩张的强有力证明。随着两条光刻胶和湿法重要过滤器产线的落成，颇尔在亚太地区的四大产品线项目产能将得到大幅提升，供应链也将迎来全面升级。凭借深厚的技术积累和卓越的产品优势，颇尔将继续深耕中国市场，助力中国芯片产业迈向更高水平。
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【原文作者】 半导体行业观察
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