芯片制造的“隐形功臣”，颇尔如何助力良率提升

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文章摘要

在芯片制造进入亚纳米时代的背景下，半导体制造面临新的挑战，尤其是过滤和纯化工艺成为关键环节。洁净度直接影响芯片的利用效率、运行性能和生产成本，污染可能导致生产效率下降或芯片良率降低。因此，高精度过滤技术在整个芯片制造链路中至关重要，涉及极紫外光刻机的光学系统、光刻胶的纳米级涂布以及CMP研磨液的均匀度控制等多个环节。高精度过滤技术已成为决定芯片良率的隐形战场。

颇尔公司（Pall Corporation）作为过滤、分离和纯化解决方案的专家，正在为更多半导体企业提供支持。近期，颇尔中国总经理陈淮和微电子事业部总负责人陈磊在SEMICON China期间展示了四款重磅新品，并探讨了颇尔如何通过多点位生产布局和尖端过滤技术应对芯片制造中的良率挑战。颇尔在亚太地区的投资布局，尤其是北京和新加坡工厂的扩建，体现了其“深耕本地，服务本地”的战略。北京工厂负责气体过滤和化学机械研磨产品，而新加坡工厂则专注于光刻和湿法化学产品，形成了稳定的“铁三角”供应链体系。

颇尔的四款新品在提升芯片良率方面发挥了重要作用。Xpress® 1nm过滤器采用1纳米PTFE膜技术，高效去除液体中的有机污染物和表面颗粒，显著缩短冲洗时间，确保湿化学品的高纯度。Gaskleen® TM 1.5nm气体过滤器则通过PTFE与镀膜材料复合技术，拦截气体中的超细微颗粒，提升制程稳定性。UCA 50nm过滤器专为CMP应用设计，去除研磨液中的50纳米级团聚颗粒与凝胶，降低工艺缺陷率。Photokleen® sub 1nm过滤器则通过超低析出的HDPE膜材，拦截光刻胶中的残留颗粒、金属离子及有机物，助力EUV光刻等先进工艺。

颇尔不仅在技术创新上持续突破，还通过全方位的客户服务支持半导体行业发展。其CIP（客户改进项目）解决方案通过深入分析客户的工艺参数和污染特征，提供量身定制的过滤方案，帮助客户提高生产良率和降低成本。此外，颇尔的SLS（销售、实验室、服务）团队为客户提供全周期的技术支持，从产品选型到技术培训，确保客户在各个环节都能获得高效支持。

随着半导体行业向更先进的节点发展，对洁净度的极致追求成为提升产品竞争力的关键因素。颇尔凭借其全球领先的技术实力和深度本土化的服务能力，不仅在半导体制造领域扮演着重要角色，还为客户提供了一系列创新解决方案，推动国内半导体行业迈向更高水平。颇尔中国总经理陈淮表示，颇尔将继续秉持“The Unsolvable, Solved”的理念，用最先进的过滤技术推动半导体行业的持续进步。

未来，颇尔将继续通过技术创新和客户服务，支持半导体行业的发展。2025年3月26日至28日，颇尔将在SEMICON China 2025上展示四款全新产品，并与行业专家进行深度交流。此外，颇尔中国还将在2024年4月17日举办线上半导体过滤研讨会，进一步分享过滤技术的突破与创新。