新凯来震撼亮相，立志成为世界一流半导体装备提供商

545 0 0

文章摘要

半导体设备在全球芯片供应链中占据着至关重要的地位，尤其是在芯片工艺不断演进的过程中，设备的要求也随之提高。然而，当前半导体设备市场主要由少数海外企业主导，这限制了晶圆厂的议价能力。近年来，随着地缘政治和地方保护主义的兴起，发展本土半导体设备成为许多地区的迫切需求，中国也不例外。新凯来作为一家成立于2022年的半导体设备企业，致力于成为世界一流的半导体设备提供商，并在短时间内取得了显著进展。

新凯来总部位于深圳，并在国内多个城市及海外设有研发中心，建立了从基础材料工艺到零部件的端到端研发体系。公司专注于先进半导体工艺装备和量检测装备的开发与制造，目标是打造可靠的产业基础，成为客户信赖的合作伙伴。在2023年Semicon China展会上，新凯来发布了三十款左右的新品，涵盖了量检测、EPI、ETCH、CVD、PVD和ALD等多个领域，展示了其在半导体设备领域的全面布局。

每一代半导体器件的演进都围绕着PPAC（性能、功耗、面积、成本）性能指标的提升。随着芯片工艺进入先进节点，晶体管尺寸的微缩和RC延迟成为主要挑战。新凯来工艺装备产品线总裁杜立军在演讲中指出，芯片工艺的演进带来了外延工艺、刻蚀工艺、介质薄膜沉积工艺、金属互连工艺等方面的技术难题。针对这些问题，新凯来提出了三大解决路径：新材料、先进光刻+非光补光和3D架构。特别是在光刻机受限的情况下，非光补光技术如多重曝光、自对准和选择性沉积显得尤为重要。

然而，这些技术的应用也带来了新的挑战，例如工艺通道增加20%，进而影响良率和设备工艺窗口。为此，新凯来在硬件和算法上进行了全面布局，开发了覆盖原子物理模型到腔式化学反应模型的仿真软件，并在射频源、滤波器等底层硬件上发力，以加速面向未来的半导体装备设计。杜立军强调，新凯来的设计理念是“一代工艺，一代材料，一代装备”，公司通过构建多个基础实验室，为半导体工艺的持续演进奠定了坚实基础。

在产品方面，新凯来的扩散、刻蚀和薄膜三大类产品已支持量产，应用覆盖了先进逻辑和存储。在Semicon China展会上，新凯来展示了四大类（扩散、刻蚀、薄膜和量检测）共三十款左右的设备，包括EPI、RTP、ETCH、CVD、PVD、ALD、光学量检测、PX量测和功率检测等应用。这些设备的推出不仅标志着新凯来的技术突破，也为中国半导体设备产业树立了新的里程碑。

半导体设备的未来发展充满机遇与挑战。杜立军在演讲中提出了对中国半导体装备产业的深刻思考，强调了对物理极限的探索和技术创新的重要性。新凯来将继续秉承以技术为本的初心，与合作伙伴联合创新，为客户提供更多选择，致力于成为世界一流的半导体装备提供商。