俄罗斯的光刻机往事

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文章摘要

美国在半导体工业发展史上诞生诸多传奇，而苏联虽在大规模集成电路领域落后，但仍留下了发展的火种。2025 年，俄罗斯发布首台 350nm 光刻机，由俄罗斯的 ZNTC 与白俄罗斯的 Planar 联合研发，Planar 登上舞台。

Planar 基本情况：Planar 在中国叫 KB – TEM，隶属于白俄罗斯“KB – TEM”设计局，成立于 1963 年，是苏联电子工业体系重要组成。苏联解体后，它经历所有制调整，转向市场化运营，扩展产品线。其核心优势是低成本、高可靠性的半导体制造设备，适用于教育、科研及中小规模生产，设备广泛应用于俄罗斯、白俄罗斯科研院所，还与中国、印度等有合作。

苏联光刻机往事：因技术路线不同，苏联半导体技术发展落后于西方和东德。苏联 50 年代末筹备微电子工业，60 年代中期诞生本土化接触式光刻机，70 年代激发准分子激光，1978 年启动同步辐射加速器研发，1987 年公布领先的 EUV 光刻研究成果，80 年代末开发出 EUV 光刻多层镜制造技术。白俄罗斯在苏联光刻机发展中举足轻重，Planar 是东欧最大半导体设备制造商之一，白俄罗斯科学院等提供关键技术，形成完整链条。苏联解体后，光刻机产业主要留在白俄罗斯。

光刻博物馆：光学投影光刻机技术演进历经多阶段，Planar 的光刻机未跟上主流发展，在全球半导体制造技术发展中落后，但对独联体国家仍是可用选择。接近/接触式光刻机在科研、MEMS 制造和封装厂仍是主流，Planar 有此类产品；其另一法宝激光直写光刻机用于科研和小批量芯片生产，市场竞争激烈。Planar 依靠技术积累幸存，被称为苏联光刻技术“活化石”，但面临竞争将更激烈。

多面手转战光罩制造：Planar 的光罩产品线配置与日本 V – Technology 相似，都有激光直写光刻等技术，使用飞秒激光修复光罩缺陷，也发展出图形补缺手段。不过，Planar 应对市场化竞争能力不足，产品交付和后续维保支持不如 V – Technology，在光罩缺陷检测设备市场拓展表现也欠佳。当下，Planar 若无法借此机会全面升级产品线，传统客户可能变成竞争对手。